双盘式四速磨抛机

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金相设备

发布时间：2020-04-10

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来源：上海泰明光学仪器有限公司

双盘台式四速磨抛机 MP-2C型

MP-2C双盘台式金相磨抛机（以下简称磨抛机）是一种集预磨抛光一体的设备，它利用各种不同粒度的耐水研磨金相砂纸，对各种金属及合金式样以及岩相试样进行粗磨、精磨、干磨、湿磨等各道研磨工序，做抛光前的粗加工工序。也利用抛光布及抛光剂来粗抛精抛试样，使试样光洁如镜。采用本磨抛机，除以机械磨光代替手工操作提高制备试样的效率以外，还能完全除去试样切割过程中产生的塑性变形和表面加热痕迹，供进一步抛光后进行组织的显微测定。

本机共有四种速度可选择，一磨盘为520和700r/min，另一磨盘为800和1200r/min。针对不同材质可采用不同转速来预磨抛光，以达到好效果。

技　术　参　数

1，砂纸直径	Φ230mm
2，抛光布直径	Φ220mm
3，转速	磨盘转速：520/700r/min, 抛盘转速：800/1200r/min
4，电动机	YSD80-4/6 0.25/0.37kw
5，电源电压	380V, 50hz
6，外形尺寸	730x650x300mm
7，重量	55kg